高純氫制法和用途

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高純氫 - 制法
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以電解氫為原料，經催化脫氧、干燥、低溫吸附等凈化工藝而得。其制各方法還有低溫液化法、金屬氫化物氫凈化法、鈀膜擴散法、中空纖維膜擴散法和變壓吸附法等。

高純氫 - 用途
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高純氫主要用于大規模集成電路的制造，提供還原氣氛，作為配制SiH4/H2、PH3/H2、B2 H6/H2等混合氣的底氣。在電真空材料和器件生產過程中，對氫氣純度要求也很高。電子管的陽極、陰極和柵極等金屬器件，都需經過專門的燒氫處理。另外，在硅和砷化鎵的外延工藝中用作保護氣和運載氣。

高純氫 - 安全性
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******。在很高的濃度時，可出現麻醉作用。接觸液體可引起******。易燃壓縮氣體。貯存于陰涼、通風倉庫內。倉溫不宜超過30℃。遠離火種、熱源。防止陽光直射。應與氧氣、壓縮空氣、鹵素（氟、氯、溴），氧化劑等分開存放。切忌混貯混運。防止撞擊和曝曬。